ダイオキシン類対策特別措置法の特定施設について
工場又は事業場に設置される施設のうち、ダイオキシン類を発生し及び大気中に排出し、又はこれを含む汚水若しくは廃液を排出する施設は、ダイオキシン類対策特別措置法により特定施設が定められています。
番号 | 特定施設の種類 |
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1 | 焼結鉱(銑鉄の製造の用に供するものに限る。)の製造の用に供する焼結炉であって、原料の処理能力が1時間当たり1トン以上のもの |
2 | 製鋼の用に供する電気炉(鋳鋼又は鍛鋼の製造の用に供するものを除く。)であって、変圧器の定格容量が1,000キロボルトアンペア以上のもの |
3 | 亜鉛の回収(製鋼の用に供する電気炉から発生するばいじんであって、集じん機により集められたものからの亜鉛の回収に限る。)の用に供する焙焼炉、焼結炉、溶鉱炉、溶解炉及び乾燥炉であって、原料の処理能力が1時間当たり0.5トン以上のもの |
4 | アルミニウム合金の製造(原料としてアルミニウムくず(当該アルミニウム合金の製造を行う工場内のアルミニウムの圧延工程において生じたものを除く。)を使用するものに限る。)の用に供する焙焼炉、溶解炉及び乾燥炉であって、焙焼炉及び乾燥炉にあっては原料の処理能力が1時間当たり0.5トン以上のもの、溶解炉にあっては容量が1トン以上のもの |
5 | 廃棄物焼却炉であって、火床面積(廃棄物の焼却施設に2以上の廃棄物焼却炉が設置されている場合にあっては、それらの火床面積の合計)が0.5平方メートル以上又は焼却能力(廃棄物の焼却施設に2以上の廃棄物焼却炉が設置されている場合にあっては、それらの焼却能力の合計)が1時間当たり50キログラム以上のもの |
番号 | 特定施設の種類 |
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1 | 硫酸塩パルプ(クラフトパルプ)又は亜硫酸パルプ(サルファイトパルプ)の製造の用に供する塩素又は塩素化合物による漂白施設 |
2 | カーバイド法アセチレンの製造の用に供するアセチレン洗浄施設 |
3 | 硫酸カリウムの製造の用に供する施設のうち、廃ガス洗浄施設 |
4 | アルミナ繊維の製造の用に供する施設のうち、廃ガス洗浄施設 |
5 | 担体付きの触媒の製造(塩素又は塩素化合物を使用するものに限る。)の用に供する焼成炉から発生するガスを処理する施設のうち、廃ガス洗浄施設 |
6 | 塩化ビニルモノマーの製造の用に供する二塩化エチレン洗浄施設 |
7 | カプロラクタムの製造(塩化ニトロシルを使用するものに限る。)の用に供する施設のうち、次に掲げるもの イ 硫酸濃縮施設 ロ シクロヘキサン分離施設 ハ 廃ガス洗浄施設 |
8 | クロロベンゼン又はジクロロベンゼンの製造の用に供する施設のうち、次に掲げるもの イ 水洗施設 ロ 廃ガス洗浄施設 |
9 | 4-クロロフタル酸水素ナトリウムの製造の用に供する施設のうち、次に掲げるもの イ ろ過施設 ロ 乾燥施設 ハ 廃ガス洗浄施設 |
10 | 2・3-ジクロロ-1・4-ナフトキノンの製造の用に供する施設のうち、次に掲げるもの イ ろ過施設 ロ 廃ガス洗浄施設 |
11 | 8・18-ジクロロ-5・15-ジエチル-5・15-ジヒドロジインドロ[3・2-b:3’・2’-m]トリフェノジオキサジン(別名ジオキサジンバイオレット。ハにおいて単に「ジオキサジンバイオレット」という。)の製造の用に供する施設のうち、次に掲げるもの イ ニトロ化誘導体分離施設及び還元誘導体分離施設 ロ ニトロ化誘導体洗浄施設及び還元誘導体洗浄施設 ハ ジオキサジンバイオレット洗浄施設 ニ 熱風乾燥施設 |
12 | アルミニウム又はその合金の製造の用に供する焙焼炉、溶解炉又は乾燥炉から発生するガスを処理する施設のうち、次に掲げるもの イ 廃ガス施設 ロ 湿式集じん施設 |
13 | 亜鉛の回収(製鋼の用に供する電気炉から発生するばいじんであって、集じん機により集められたものからの亜鉛の回収に限る。)の用に供する施設のうち、次に掲げるもの イ 精製施設 ロ 廃ガス洗浄施設 ハ 湿式集じん施設 |
14 | 担体付き触媒(使用済みのものに限る。)からの金属の回収(ソーダ灰を添加して焙焼炉で処理する方法及びアルカリにより抽出する方法(焙焼炉で処理しないものに限る。)によるものを除く。)の用に供する施設のうち、次に掲げるもの イ ろ過施設 ロ 精製施設 ハ 廃ガス洗浄施設 |
15 | 別表1第5号に掲げる廃棄物焼却炉から発生するガスを処理する施設のうち次に掲げるもの及び当該廃棄物焼却炉において生ずる灰の貯留施設であって汚水又は廃液を排出するもの イ 廃ガス洗浄施設 ロ 湿式集じん施設 |
16 | 廃棄物の処理及び清掃に関する法律施行令7条12号の2及び13号に掲げる施設 |
17 | フロン類(特定物質の規制等によるオゾン層の保護に関する法律施行令別表1の項、3の項及び6の項に掲げる特定物質をいう。)の破壊(プラズマを用いて破壊する方法その他環境省令で定める方法によるものに限る。)の用に供する施設のうち、次に掲げるもの イ プラズマ反応施設 ロ 廃ガス洗浄施設 ハ 湿式集じん施設 |
18 | 下水道終末処理施設(1号から前号まで及び次号に掲げる施設に係わる汚水又は廃液を含む下水を処理するものに限る。) |
19 | 1号から17号までに掲げる施設を設置する工場又は事業場から排出される水(1号から17号までに掲げる施設に係る汚水若しくは廃液又は当該汚水若しくは廃液を処理したものを含むものに限り、公共用水域に排出されるものを除く。)の処理施設(前号に掲げるものを除く。) |
排出基準
特定施設に係る排出ガス又は排出水の排出基準は、特定施設の種類及び構造に応じて定められています。
特定施設の種類 | 新設施設 | 既設施設 |
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廃棄物焼却炉(焼却能力が1時間当たり4トン以上) | 0.1 | 1 |
廃棄物焼却炉(焼却能力が1時間当たり2トン以上4トン未満) | 1 | 5 |
廃棄物焼却炉(焼却能力が1時間当たり2トン未満) | 5 | 10 |
焼結鉱の製造の用に供する焼結炉 | 0.1 | 1 |
製鋼の用に供する電気炉 | 0.5 | 5 |
亜鉛の回収の用に供する焙焼炉、焼結炉、溶鉱炉、溶解炉及び乾燥炉 | 1 | 10 |
アルミニウム合金の製造の用に供する焙焼炉、溶解炉及び乾燥炉 | 1 | 5 |
(単位:標準状態で1立方メートル当たりのナノグラム毒性等量)
注1)新設施設(平成12年1月15日以降に配置)、既設施設(平成12年1月14日以前に配置)
注2)廃棄物焼却炉については、酸素濃度12%補正、焼結鉱の製造の用に供する焼結施設については、酸素濃度15%補正を行うこととする。
すべての特定施設 | 10 |
(単位:1リットル当たりのピコグラム毒性等量)
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更新日:2019年09月06日